超聲噴涂與傳統的二流體噴涂相比，具有涂層均勻度高、原料利用率高、涂層厚度控制精度高、涂層厚度更薄、飛濺少、噴頭不堵塞、維護成本低等優點。而相比于真空蒸鍍、CVD等鍍膜工藝，超聲噴涂是一種更加經濟的薄膜涂覆工藝，尤其是在較大面積薄膜制備上，超聲噴涂的設備成本低于真空鍍膜設備。

超聲波噴涂的主要優勢有：

1.涂層均勻度高

通過超聲噴頭霧化后的液體顆粒分布均勻度***高于二流體噴頭，也就是俗稱的空氣噴槍，從而超聲噴頭噴涂后的涂層均勻度也就有了提高。通常情況，超聲噴涂的涂層均勻度可達到95%以上。

超聲波霧化器可以用于制造金屬合金中的微粒。天津定制超聲波霧化廠家直銷

該種霧化方式主要是為了解決上述第一種單晶片壓電陶瓷霧化的能量轉化效率低這一缺點而發明的，相比于單晶片壓電陶瓷霧化，微孔網片式霧化的優點是霧化效率高，需要3-5V 的電壓激勵以及1-2W的電功率即可產生良好的霧化效果。并且，利用該技術制作的霧化裝置噴霧方向上可以更加自由，不需要累積一定量的液體才可以霧化。但是，該霧化方式也有諸多缺點，比如雖然霧化效率高，但是由于實際是靠金屬薄片振動，其振動力要遠小于壓電陶瓷，故此它能夠提供的霧化量和霧化能力很低，霧化量通常不足10ml/h，能夠霧化的液體粘度也為1-2cps。因此也只能霧化與水相近的少量液體。另外，由于微孔太小，霧化液體中的溶質或雜質很容易造成微孔堵塞而使霧化裝置無法霧化。當自上而下噴霧時，如果霧化液體過多會積壓在微孔網片上，也會造成無法振動霧化的情況。江蘇直銷超聲波霧化銷售廠家超聲波霧化器可以用于制造半導體器件上的涂層。

美國的Sono-Tek、USI和我們東方金榮Siansonic公司先后掌握了此項超聲霧化技術，憑借該超聲霧化技術的獨特優勢，可以將各種溶液、溶膠、懸浮液等超聲霧化后沉積在基材表面形成均勻的薄膜涂層，從而將超聲霧化技術從加濕、霧化吸入等傳統領域帶入到全新而廣闊的薄膜涂層等先進材料領域。圖5展示了東方金榮朗之萬式超聲波噴頭霧化時的狀態。

基于該種超聲霧化技術的薄膜涂層制備工藝被成為“超聲波噴涂”，已被廣泛應用于生物醫療、新能源、微電子半導體、玻璃制造、納米材料等各種制造領域。同時，該技術也同樣可以應用于噴霧熱解、噴霧干燥等超細粉體制備的先進材料制造領域。當然，朗之萬式換能器的超聲波霧化技術也同樣存在自己的技術缺點，其比較大缺點是霧化粒徑比較大，這是由于朗之萬變幅桿式超聲波換能器的頻率不能很高，通常只能在20-200kHz之間，所以能夠達到的**小霧化顆粒也要在10微米以上，對于要求霧化粒徑很小的領域，該種霧化方式則不法適應。

第二種超聲波霧化方式是通過環形壓電陶瓷與一個微孔網片貼合而形成的超聲霧化裝置，該項技術在本世紀初期從壓電噴墨打印上改良而引入到超聲霧化領域。其是利用壓電陶瓷的徑向伸縮振動帶動微孔網片（一般為不銹鋼、鈦合金等金屬薄片）的軸向振動，然后微孔網片將其一側的液體吸收并穿過微孔噴射出去，由于微孔很多孔徑很小（一般在5-10微米），被微孔網篩出去的微小液滴也就形成了液霧。圖4為一種微孔網片式霧化換能器的微孔片顯微鏡照片。此種霧化方式實際上是一種噴閥而并不是傳統意義上的振動撕裂產生的霧化，所以該種霧化方式與其他超聲霧化方式不同，其霧化粒徑與超聲頻率無關，與微孔的孔徑有關，霧化粒徑基本與孔徑接近。超聲波液體處理可以制備醫藥中間體及原料藥。

霧化噴涂原理：

是通過壓電換能器將高頻聲波轉換成機械能，再將機械能轉換成液體，這種縱向向上和向下的振動在超聲波噴涂設備廠家噴頭端的應用液體薄膜中產生駐波，在那里這些波的振幅可以由功率發生器控制。這些靜止的液體波可以從超聲波噴頭的頂端向上延伸，當液滴離開噴頭的霧化表面時，被分解成均勻的微米級甚至納米級液滴的細霧。

組成：

整機由超聲波霧化噴頭，用驅動電源，XYZ三軸聯動伺服系統，智能化操作系統，液體供給系統，低速空氣整形裝置，外殼箱體等組成。 超聲波霧化器可以用于制備高純度金屬合金、玻璃等材料。山東直銷超聲波霧化哪家強

超聲波霧化是利用超聲能量使液體形成細霧滴的過程。天津定制超聲波霧化廠家直銷

超聲波霧化噴嘴的流量范圍一般都比較大，不像傳統空氣驅動的噴嘴需需要依靠空氣的力量，來分解液體流進行霧化。因此同一溶液單位時間內噴嘴霧化的液體量，主要由霧化噴嘴結合使用的液體輸送系統控制。

純溶液在大多數情況下與純液體相似，除了當溶解液中含有很長的聚合物分子鏈。在這種情況下，聚合物分子的長度會影響霧化過程，當液滴從整個液體中分離并進而形成霧化時，那些聚合物分子就會阻礙這種離散液滴的形成。

帶有不溶解固體的混合液，有三種因素會影響霧化能力：顆粒大小、 固體濃度及固體顆粒與載體之間的動態關系。 天津定制超聲波霧化廠家直銷