微光顯微鏡無法檢測不產(chǎn)生光子的失效（如歐姆接觸、金屬短路），且易受強光環(huán)境干擾；熱紅外顯微鏡則難以識別無明顯溫度變化的失效（如輕微漏電但功耗極低的缺陷），且溫度信號可能受環(huán)境熱傳導(dǎo)影響。

實際分析中，二者常結(jié)合使用，通過 “光 - 熱” 信號交叉驗證，提升失效定位的準(zhǔn)確性。致晟光電在技術(shù)創(chuàng)新的征程中，實現(xiàn)了一項突破性成果 —— 將熱紅外顯微鏡與微光顯微鏡集可以集成于一臺設(shè)備，只需一次采購，便可以節(jié)省了重復(fù)的硬件投入。 微光顯微鏡的自動瑕疵分類系統(tǒng)，可依據(jù)發(fā)光的強度、形狀等特征進行歸類，提高檢測報告的生成效率。直銷微光顯微鏡貨源充足

致晟光電 RTTLIT E20 微光顯微分析系統(tǒng)（EMMI）是一款專為半導(dǎo)體器件漏電缺陷檢測量身打造的高精度檢測設(shè)備。該系統(tǒng)搭載先進的 - 80℃制冷型 InGaAs 探測器與高分辨率顯微物鏡，憑借超高檢測靈敏度，可捕捉器件在微弱漏電流信號下產(chǎn)生的極微弱微光。通過超高靈敏度成像技術(shù)，設(shè)備能快速定位漏電缺陷并開展深度分析，為工程師優(yōu)化生產(chǎn)工藝、提升產(chǎn)品可靠性提供關(guān)鍵支持，進而為半導(dǎo)體器件的質(zhì)量控制與失效分析環(huán)節(jié)提供安全可靠的解決方案。低溫?zé)嵛⒐怙@微鏡性價比漏電結(jié)和接觸毛刺會產(chǎn)生亮點，這些亮點產(chǎn)生的光子能被微光顯微鏡捕捉到。

EMMI 微光顯微鏡作為集成電路失效分析的重要設(shè)備，其漏電定位功能對于失效分析工程師而言是不可或缺的工具。在集成電路領(lǐng)域，對芯片的可靠性有著極高的要求。在芯片運行過程中，微小漏電現(xiàn)象較為常見，且在特定條件下，這些微弱的漏電可能會被放大，導(dǎo)致芯片乃至整個控制系統(tǒng)的失效。因此，芯片微漏電現(xiàn)象在集成電路失效分析中占據(jù)著至關(guān)重要的地位。此外，考慮到大多數(shù)集成電路的工作電壓范圍在3.3V至20V之間，工作電流即便是微安或毫安級別的漏電流也足以表明芯片已經(jīng)出現(xiàn)失效。因此，準(zhǔn)確判斷漏流位置對于確定芯片失效的根本原因至關(guān)重要。

柵氧化層缺陷顯微鏡發(fā)光技術(shù)定位的失效問題中，薄氧化層擊穿現(xiàn)象尤為關(guān)鍵。然而，當(dāng)多晶硅與阱的摻雜類型一致時，擊穿并不必然伴隨著空間電荷區(qū)的形成。關(guān)于其發(fā)光機制的解釋如下：當(dāng)電流密度達到足夠高的水平時，會在失效區(qū)域產(chǎn)生的電壓降。該電壓降進而引起顯微鏡光譜區(qū)內(nèi)的場加速載流子散射發(fā)光現(xiàn)象。值得注意的是，部分發(fā)光點表現(xiàn)出不穩(wěn)定性，會在一段時間后消失。這一現(xiàn)象可歸因于局部電流密度的升高導(dǎo)致?lián)舸﹨^(qū)域熔化，進而擴大了擊穿區(qū)域，使得電流密度降低。熱電子與晶格相互作用及閂鎖效應(yīng)發(fā)生時也會產(chǎn)生光子，在顯微鏡下呈現(xiàn)亮點。

微光顯微鏡的原理是探測光子發(fā)射。它通過高靈敏度的光學(xué)系統(tǒng)捕捉芯片內(nèi)部因電子 - 空穴對（EHP）復(fù)合產(chǎn)生的微弱光子（如 P-N 結(jié)漏電、熱電子效應(yīng)等過程中的發(fā)光），進而定位失效點。其探測對象是光信號，且多針對可見光至近紅外波段的光子。熱紅外顯微鏡則基于紅外輻射測溫原理工作。芯片運行時，失效區(qū)域（如短路、漏電點）會因能量損耗異常產(chǎn)生局部升溫，其釋放的紅外輻射強度與溫度正相關(guān)。設(shè)備通過檢測不同區(qū)域的紅外輻射差異，生成溫度分布圖像，以此定位發(fā)熱異常點，探測對象是熱信號（紅外波段輻射）。靜電放電破壞半導(dǎo)體器件時，微光顯微鏡偵測其光子可定位故障點，助分析原因程度。國內(nèi)微光顯微鏡銷售公司

當(dāng)二極管處于正向偏置或反向擊穿狀態(tài)時，會有強烈的光子發(fā)射，形成明顯亮點。直銷微光顯微鏡貨源充足

光束誘導(dǎo)電阻變化（OBIRCH）功能與微光顯微鏡（EMMI）技術(shù)常被集成于同一檢測系統(tǒng)，合稱為光發(fā)射顯微鏡（PEM，PhotoEmissionMicroscope）。

二者在原理與應(yīng)用上形成巧妙互補，能夠協(xié)同應(yīng)對集成電路中絕大多數(shù)失效模式，大幅提升失效分析的全面性與效率。OBIRCH技術(shù)的獨特優(yōu)勢在于，即便失效點被金屬層覆蓋形成“熱點”，其仍能通過光束照射引發(fā)的電阻變化特性實現(xiàn)精細檢測——這恰好彌補了EMMI在金屬遮擋區(qū)域光信號捕捉受限的不足。

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