PVD涂層鍍膜設備的工作原理主要是在真空環境下,通過物理過程將固態材料轉化為氣態,并沉積到基材表面形成薄膜。具體來說,其工作原理可以細分為以下幾個步驟: 蒸發:在真空環境中,通過加熱或其他方法(如離子轟擊)將固態的靶材(即要鍍膜的材料)轉化為氣態。這...
濺射鍍膜機: 原理與特點:濺射鍍膜機利用高能粒子(如氬離子)轟擊靶材,使靶材原子濺射并沉積到基體表面。該技術膜層致密、附著力強,適合復雜工件,且可沉積材料種類多樣。優勢:廣泛應用于刀具硬質涂層(如TiN、CrN)、半導體金屬互聯層、光伏薄膜電池等。可...
航空航天領域: 飛行器零部件鍍膜:在航空發動機葉片、渦輪盤等零部件表面鍍膜,可以提高其耐高溫、抗氧化、抗腐蝕性能,延長零部件的使用壽命。例如,在發動機葉片表面鍍上熱障涂層,可以有效降低葉片的工作溫度,提高發動機的效率和可靠性。光學部件鍍膜:航空航天領...
蒸發鍍膜機: 電阻加熱蒸發鍍膜機:通過電阻加熱使靶材蒸發,適用于低熔點材料(如鋁、銀)。 電子束蒸發鍍膜機:利用電子束轟擊高熔點靶材(如鎢、氧化物),蒸發溫度可達3000℃以上,適用于高純度薄膜制備。濺射鍍膜機直流磁控濺射鍍膜機:適用于金屬和合...
真空蒸發鍍膜原理:首先將鍍膜材料放置在加熱源中,然后把鍍膜室抽成真空狀態。當加熱源的溫度升高時,鍍膜材料會從固態逐漸轉變為氣態,這個過程稱為蒸發。蒸發后的氣態原子或分子會在真空環境中自由運動,由于沒有空氣分子的干擾,它們會以直線的方式向各個方向擴散。當這些氣態...
輝光放電與離子轟擊:在真空腔體內充入惰性氣體(如氬氣),施加高壓電場使氣體電離,形成等離子體。等離子體中的正離子(如Ar?)在電場作用下加速轟擊靶材表面,將靶材原子或分子濺射出來。 磁場約束電子運動:通過在靶材表面施加垂直電場的磁場,使電子在電場和磁...
實現特殊功能光學性能調控:在光學領域,鍍膜機可以通過精確控制薄膜的厚度和折射率等參數,制備出具有特定光學性能的薄膜,如增透膜、反射膜、濾光膜等。這些光學薄膜廣泛應用于相機鏡頭、望遠鏡、顯微鏡、太陽能電池等領域,能夠提高光學元件的透光率、反射率等性能,改善成像質...
離子鍍膜機:利用離子轟擊基板表面以改善涂層附著性和膜厚均勻性,適用于制備金屬、陶瓷和聚合物等材料的薄膜。蒸發鍍膜機:通過加熱材料讓其蒸發并沉積在基板表面形成薄膜,包括電阻蒸發真空鍍膜設備、電子束蒸發真空鍍膜設備等。蒸發鍍膜機操作簡單、制備工藝成熟,廣泛應用于金...
刀具與模具涂層: 應用場景:各類切削刀具(銑刀、鉆頭、車刀)、沖壓模具、注塑模具等。 涂層類型:硬質耐磨涂層:TiN(金色,硬度 HV 2000~2500)、TiCN(黑色,HV 3000~3500)、AlTiN(藍灰色,HV 3500+,耐高...
鍍膜機的技術發展趨勢: 高精度與大尺寸滿足大尺寸面板(如8K電視玻璃)和微納結構的高精度鍍膜需求。環保與節能開發低溫CVD、原子層沉積(ALD)等低能耗技術,減少有害氣體排放。多功能集成結合光刻、刻蝕等工藝,實現復雜功能薄膜的一體化制備。智能化與自動...
二次電子的能量利用:濺射過程中產生的二次電子在磁場作用下被束縛在靶材表面附近,進一步參與氣體電離,形成自持的放電過程。由于二次電子能量較低,終沉積在基片上的能量很小,基片溫升較低。 磁場分布對濺射的影響: 平衡磁控濺射:磁場在靶材表面均勻分布,...
早期探索(19 世紀 - 20 世紀初)19 世紀,真空鍍膜尚處于探索和預研發階段。1839 年,電弧蒸發研究開啟,這是對鍍膜材料氣化方式的初步嘗試,為后續發展奠定基礎。1852 年,科學家們將目光投向真空濺射鍍膜,開始探究利用離子轟擊使材料沉積的可能性。18...
鍍膜機的技術發展趨勢: 高精度與大尺寸滿足大尺寸面板(如8K電視玻璃)和微納結構的高精度鍍膜需求。環保與節能開發低溫CVD、原子層沉積(ALD)等低能耗技術,減少有害氣體排放。多功能集成結合光刻、刻蝕等工藝,實現復雜功能薄膜的一體化制備。智能化與自動...
化學氣相沉積(CVD)原理:在化學氣相沉積過程中,需要將含有薄膜組成元素的氣態前驅體(如各種金屬有機化合物、氫化物等)引入反應室。這些氣態前驅體在高溫、等離子體或催化劑等條件的作用下,會發生化學反應,生成固態的薄膜物質,并沉積在基底表面。反應過程中,氣態前驅體...
二次電子的能量利用:濺射過程中產生的二次電子在磁場作用下被束縛在靶材表面附近,進一步參與氣體電離,形成自持的放電過程。由于二次電子能量較低,終沉積在基片上的能量很小,基片溫升較低。 磁場分布對濺射的影響: 平衡磁控濺射:磁場在靶材表面均勻分布,...
裝飾領域: 珠寶首飾鍍膜:在珠寶、首飾表面鍍上一層金屬或合金薄膜,如鍍銀、鍍金、鍍銠等,可以增加其光澤度和美觀度,同時提高耐磨性和耐腐蝕性。此外,還可以通過鍍膜技術實現各種特殊的顏色和效果,滿足不同消費者的個性化需求。家居裝飾鍍膜:在家居用品如燈具、...
鍍膜機的組件: 真空系統提供高真空環境(通常為10?3至10?? Pa),防止薄膜材料氧化或污染。鍍膜源蒸發源(電阻加熱、電子束加熱)、濺射靶材、化學前驅體供應裝置等。基材夾具固定和旋轉基材,確保薄膜均勻性。控制系統監控和調節真空度、溫度、沉積速率等...
鍍膜機的組件: 真空系統提供高真空環境(通常為10?3至10?? Pa),防止薄膜材料氧化或污染。鍍膜源蒸發源(電阻加熱、電子束加熱)、濺射靶材、化學前驅體供應裝置等。基材夾具固定和旋轉基材,確保薄膜均勻性。控制系統監控和調節真空度、溫度、沉積速率等...
增強耐磨性:通過在材料表面鍍上一層硬度高、耐磨性能好的薄膜,如氮化鈦、碳化鎢等涂層,可以顯著提高材料表面的硬度和抗磨損能力,延長材料的使用壽命。例如在機械加工刀具上鍍膜,可使刀具在切削過程中更耐磨損,減少刀具的更換頻率,提高加工效率。提高耐腐蝕性:鍍膜能夠在材...
沉積:氣態的靶材原子或離子在基材表面冷卻并凝結,形成薄膜。這一過程中,原子或離子在基材表面重新排列組合,形成具有特定結構和性能的薄膜。沉積過程中,氣體的種類和壓力、基材的溫度以及沉積時間等因素都會影響薄膜的結構和性能。此外,PVD涂層鍍膜設備還具有多功能性、薄...
裝飾領域: 珠寶首飾鍍膜:在珠寶、首飾表面鍍上一層金屬或合金薄膜,如鍍銀、鍍金、鍍銠等,可以增加其光澤度和美觀度,同時提高耐磨性和耐腐蝕性。此外,還可以通過鍍膜技術實現各種特殊的顏色和效果,滿足不同消費者的個性化需求。家居裝飾鍍膜:在家居用品如燈具、...
早期探索(19 世紀 - 20 世紀初)19 世紀,真空鍍膜尚處于探索和預研發階段。1839 年,電弧蒸發研究開啟,這是對鍍膜材料氣化方式的初步嘗試,為后續發展奠定基礎。1852 年,科學家們將目光投向真空濺射鍍膜,開始探究利用離子轟擊使材料沉積的可能性。18...
鍍膜機是一種用于在各種材料表面沉積薄膜的設備,它的應用非常多樣,主要包括以下幾個方面: 光學領域眼鏡鏡片鍍膜:鍍減反射膜是眼鏡鏡片鍍膜的常見應用。通過在鏡片表面沉積多層薄膜,可以減少鏡片表面的反射光。例如,在普通的玻璃或樹脂鏡片上鍍膜后,能有效減少因...
離子鍍機: 原理與特點:離子鍍機在鍍膜過程中引入離子轟擊,通過高能粒子碰撞改善膜層性能。該技術膜層附著力極強,可制備超硬、耐磨涂層,繞鍍性能優異。 優勢:適用于航空航天部件防護涂層(如DLC、TiAlN)、汽車活塞環耐磨鍍層等。可實現多種材料的...
技術突破與拓展(20 世紀 60 年代 - 80 年代)到了 60 年代,隨著半導體產業的興起,真空鍍膜機迎來了重要的發展契機。1965 年,寬帶三層減反射系統研制成功,滿足了光學領域對更高性能薄膜的需求。與此同時,化學氣相沉積(CVD)技術開始應用于硬質合金...
刀具與模具涂層: 應用場景:各類切削刀具(銑刀、鉆頭、車刀)、沖壓模具、注塑模具等。 涂層類型:硬質耐磨涂層:TiN(金色,硬度 HV 2000~2500)、TiCN(黑色,HV 3000~3500)、AlTiN(藍灰色,HV 3500+,耐高...
提升材料性能,延長使用壽命: 耐磨抗腐蝕:刀具鍍膜機通過沉積TiN、TiAlN等硬質涂層,使刀具硬度提升2-3倍,壽命延長5倍以上,降低工業加工成本。 耐高溫防護:航空航天鍍膜機為發動機葉片制備熱障涂層(如YSZ),可承受1200℃以上高溫,延...
提升產品性能:通過在物體表面鍍上一層或多層薄膜,可以顯著提高產品的耐磨性、耐腐蝕性、硬度、導電性、導熱性、光學性能等。例如,在刀具表面鍍膜可以提高其硬度和耐磨性,延長使用壽命;在光學鏡片上鍍膜可以增加透光率、減少反射,提高成像質量。改善外觀品質:鍍膜能夠為產品...
鍍膜機的技術發展趨勢: 高精度與大尺寸滿足大尺寸面板(如8K電視玻璃)和微納結構的高精度鍍膜需求。環保與節能開發低溫CVD、原子層沉積(ALD)等低能耗技術,減少有害氣體排放。多功能集成結合光刻、刻蝕等工藝,實現復雜功能薄膜的一體化制備。智能化與自動...
真空腔室材質:不銹鋼(耐腐蝕、易清潔),內壁拋光以減少薄膜沉積死角。配置: 靶材組件:多個電弧靶(可旋轉或固定),靶材材質根據膜層需求選擇(如鈦、鉻、鋯、不銹鋼等)。 工件架:可旋轉或行星運動,確保工件表面均勻受鍍(公轉 + 自轉)。 進...