在半導體制造領域，晶圓甩干機扮演著至關重要的角色。它是用于去除晶圓表面液體，實現快速干燥的關鍵設備。晶圓甩干機主要基于離心力原理工作。當晶圓被放置在甩干機的旋轉平臺上，電機帶動平臺高速旋轉，此時晶圓表面的液體在離心力作用下，迅速向邊緣移動并被甩出，從而達到快速干燥的目的。這種工作方式高效且能保證晶圓表面的潔凈度。從結構上看，它主要由旋轉系統、驅動電機、控制系統以及保護外殼等部分組成。旋轉系統需具備高精度的平整度，以確保晶圓在旋轉過程中保持穩定，避免因晃動導致晶圓受損或干燥不均勻。驅動電機則要提供足夠的動力，使旋轉平臺能夠達到所需的高轉速。控制系統能精 zhun 調節轉速、旋轉時間等參數，滿足不同工藝對干燥程度的要求。保護外殼一方面防止操作人員接觸到高速旋轉部件，保障安全；另一方面，可避免外界雜質進入，維持內部潔凈環境。在半導體制造流程中，晶圓甩干機通常應用于清洗工序之后。清洗后的晶圓表面會殘留大量清洗液，若不及時干燥，可能會導致水漬殘留、氧化等問題，影響后續光刻、蝕刻等工藝的精度和質量。通過晶圓甩干機的高效干燥，能為后續工藝提供干凈、干燥的晶圓，極大地提高了芯片制造的良品率。使用雙工位甩干機，衣物甩干后更加松軟，減少了晾曬時間。江蘇水平甩干機廠家

在半導體制造中，晶圓甩干機是確保質量的關鍵干燥設備。它通過離心力原理，將晶圓表面液體快速去除。當晶圓在甩干機內高速旋轉時，液體在離心力作用下從晶圓表面甩出。甩干機的旋轉部件設計精良，采用特殊材料提高其耐磨性和穩定性。驅動電機具備強大的動力輸出和精確的調速功能，以滿足不同工藝對甩干速度的要求。控制系統智能化程度高，可實現對甩干過程的quan mian 控制和實時監控。在半導體制造流程中，清洗后的晶圓經甩干機處理，去除殘留液體，防止液體殘留對后續光刻、蝕刻等工藝造成不良影響，如導致圖案變形，確保半導體制造質量。陜西臥式甩干機公司雙工位設計使得甩干機能夠同時處理不同類型的衣物，非常實用。

半導體制造工藝不斷發展，晶圓尺寸也在逐步增大，從早期的較小尺寸（如 100mm、150mm）發展到如今的 300mm 甚至更大，同時不同的芯片制造工藝對晶圓甩干機的具體要求也存在差異，如不同的清洗液、刻蝕液成分和工藝條件等。因此，出色的立式晶圓甩干機需要具備良好的兼容性，能夠適應不同尺寸的晶圓，并且可以針對不同的工藝環節進行靈活的參數調整。例如，在控制系統中預設多種工藝模式，操作人員只需根據晶圓的類型和工藝要求選擇相應的模式，甩干機即可自動調整到合適的運行參數。此外，甩干機的機械結構設計也應便于進行調整和改裝，以適應未來可能出現的新晶圓尺寸和工藝變化。

晶圓甩干機常見故障及解決方法

一、甩干機轉速不穩定故障原因：可能是電機故障、傳動皮帶松動或控制系統出現問題。解決方法：檢查電機是否有異常發熱、噪音等情況，如有則需維修或更換電機；調整傳動皮帶的松緊度，若皮帶磨損嚴重應及時更換；檢查控制系統的參數設置，如有必要，重新校準或升級控制程序。

二、甩干后晶圓表面有殘留液體故障原因：可能是甩干時間不足、轉速不夠、晶圓放置不平衡或設備腔體密封性不好。解決方法：適當延長甩干時間或提高轉速；重新放置晶圓，確保其在甩干桶中處于平衡狀態；檢查設備腔體的密封膠條，如有老化、損壞，及時更換。

三、設備運行時出現異常噪音故障原因：可能是機械部件磨損、松動，或者有異物進入設備內部。解決方法：停機檢查各個機械部件，如軸承、甩干轉子等，對磨損嚴重的部件進行更換，對松動的部件進行緊固；清理設備內部的異物。 為了適應不同尺寸的晶圓，晶圓甩干機通常配備有多種夾具和適配器。

傳統的晶圓甩干機在效率、精度和穩定性等方面存在一定的局限性，臥式晶圓甩干機通過先進的設計，成功突破了這些局限。獨特的臥式轉鼓結構，增大了晶圓與離心力的接觸面積，提高了甩干效率。轉鼓表面采用特殊的耐磨材料和處理工藝，不僅提高了轉鼓的耐磨性，還減少了對晶圓的刮擦風險。先進的風道設計，使氣流在轉鼓內均勻分布，加速了液體的蒸發和排出，進一步提升了甩干效果。同時，設備的控制系統采用了先進的微機電技術，實現了對甩干過程的精 zhun控制，提高了甩干的精度和穩定性。臥式晶圓甩干機的先進設計，為半導體制造帶來了更高效、更精 zhun、更穩定的晶圓甩干解決方案。雙工位甩干機還配備了透明視窗，方便觀察甩干過程。河北單腔甩干機源頭廠家

雙工位甩干機的操作界面簡單明了，老人小孩都能輕松上手。江蘇水平甩干機廠家

晶圓甩干機的結構組成：

旋轉機構：包括電機、轉軸、轉子等部件，電機提供動力，通過轉軸帶動轉子高速旋轉，轉子用于固定和承載晶圓，確保晶圓在旋轉過程中保持穩定。

腔室：是晶圓甩干機的工作空間，通常由不銹鋼或其他耐腐蝕、耐磨損的材料制成，腔室的密封性良好，能夠防止液體和雜質進入，同時也能保證內部氣流的穩定。

噴淋系統：在漂洗過程中，噴淋系統將去離子水或其他清洗液均勻地噴灑在晶圓表面，以沖洗掉晶圓上的雜質和殘留化學物質。

氮氣供應系統：包括氮氣瓶、減壓閥、流量計、加熱器等部件，用于向腔室內提供加熱的氮氣，以輔助晶圓干燥。

控制系統：一般采用可編程邏輯控制器（PLC）或觸摸屏控制系統，可實現對設備的參數設置、運行監控、故障診斷等功能，操作人員可以通過控制系統設置沖洗時間、干燥時間、旋轉速度、氮氣流量和溫度等參數。 江蘇水平甩干機廠家