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西安網(wǎng)版光刻膠國產(chǎn)廠家

來源: 發(fā)布時間:2025-07-09

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司以光刻膠為中心,逐步拓展至半導(dǎo)體全材料領(lǐng)域,形成了 “技術(shù)驅(qū)動、全產(chǎn)業(yè)鏈覆蓋” 的發(fā)展格局。公司產(chǎn)品不僅包括芯片與 LCD 光刻膠,還延伸至錫膏、焊片、靶材等配套材料,為客戶提供一站式采購服務(wù)。

市場與榮譽:
  • 產(chǎn)品遠銷全球 50 多個地區(qū),客戶包括電子制造服務(wù)商(EMS)及半導(dǎo)體廠商。
  • 獲評 “廣東省專精特新企業(yè)”“廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè)”,并通過技術(shù)企業(yè)認證。
  • 生產(chǎn)基地配備自動化設(shè)備,年產(chǎn)能超千噸,滿足大規(guī)模訂單需求。
未來展望:
公司計劃進一步擴大研發(fā)中心規(guī)模,聚焦第三代半導(dǎo)體材料研發(fā),如 GaN、SiC 相關(guān)光刻膠技術(shù)。同時,深化全球化布局,在東南亞、歐洲等地設(shè)立分支機構(gòu),強化本地化服務(wù)能力。
去除殘留光刻膠(去膠)常采用氧等離子體灰化或濕法化學(xué)清洗。西安網(wǎng)版光刻膠國產(chǎn)廠家

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對比國際巨頭的差異化競爭力
維度 吉田光刻膠 國際巨頭(如JSR、東京應(yīng)化) 
技術(shù)定位 聚焦細分市場(如納米壓印、LCD) 主導(dǎo)高級半導(dǎo)體光刻膠(ArF、EUV) 
成本優(yōu)勢 原材料自主化率超80%,成本低20% 依賴進口原材料,成本高 
客戶響應(yīng) 48小時內(nèi)提供定制化解決方案 認證周期長(2-3年) 
區(qū)域市場 東南亞、北美市占率超15% 全球市占率超60% 

風險與挑戰(zhàn)

 前段技術(shù)瓶頸:ArF、EUV光刻膠仍依賴進口,研發(fā)投入不足國際巨頭的1/10。

 客戶認證周期:半導(dǎo)體光刻膠需2-3年驗證,吉田尚未進入主流晶圓廠供應(yīng)鏈。

 供應(yīng)鏈風險:部分樹脂(如ArF用含氟樹脂)依賴日本住友電木。
東莞網(wǎng)版光刻膠價格光刻膠涂覆需通過旋涂(Spin Coating)實現(xiàn)納米級均勻厚度。

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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司的產(chǎn)品體系豐富且功能強大。

在光刻膠領(lǐng)域,芯片光刻膠為芯片制造中的精細光刻環(huán)節(jié)提供關(guān)鍵支持,確保芯片線路的精細刻畫;

納米壓印光刻膠適用于微納加工,助力制造超精細的微納結(jié)構(gòu);

LCD 光刻膠則滿足液晶顯示面板生產(chǎn)過程中的光刻需求,保障面板成像質(zhì)量。

在電子焊接方面,半導(dǎo)體錫膏與焊片性能,能實現(xiàn)可靠的電氣連接,廣泛應(yīng)用于各類電子設(shè)備組裝。

靶材產(chǎn)品在材料濺射沉積工藝中發(fā)揮關(guān)鍵作用,通過精細控制材料沉積,為半導(dǎo)體器件制造提供高質(zhì)量的薄膜材料。憑借出色品質(zhì),遠銷全球,深受眾多世界 500 強企業(yè)和電子加工企業(yè)青睞 。

吉田半導(dǎo)體厚板光刻膠 JT-3001:國產(chǎn)技術(shù)助力 PCB 行業(yè)升級

JT-3001 厚板光刻膠支持 500nm/min 深蝕刻,成為國產(chǎn) PCB 電路板制造推薦材料。
吉田半導(dǎo)體自主研發(fā)的 JT-3001 厚板光刻膠,分辨率 1.5μm,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,適用于高密度 PCB 制造。其無鹵無鉛配方通過歐盟 RoHS 認證,已應(yīng)用于華為 5G 基站主板量產(chǎn)。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與全自動化工藝,批次穩(wěn)定性達 99.5%,幫助客戶提升生產(chǎn)效率 20%,加速國產(chǎn) PCB 行業(yè)技術(shù)升級,推動 PCB 行業(yè)國產(chǎn)化進程。
紫外光照射下,光刻膠會發(fā)生光化學(xué)反應(yīng),從而實現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移與固定。

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關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域

半導(dǎo)體制造:

? 在晶圓表面涂覆光刻膠,通過掩膜曝光、顯影,刻蝕出晶體管、電路等納米級結(jié)構(gòu)(如EUV光刻膠用于7nm以下制程)。

 印刷電路板(PCB):

? 保護電路圖形或作為蝕刻抗蝕層,制作線路和焊盤。

 顯示面板(LCD/OLED):

? 用于制備彩色濾光片、電極圖案等。

 微機電系統(tǒng)(MEMS):

? 加工微結(jié)構(gòu)(如傳感器、執(zhí)行器)。

工作原理(以正性膠為例)

1. 涂膠:在基材(如硅片)表面均勻旋涂光刻膠,烘干形成薄膜。

2. 曝光:通過掩膜版,用特定波長光線照射,曝光區(qū)域的光敏劑分解,使樹脂變得易溶于顯影液。

3. 顯影:用顯影液溶解曝光區(qū)域,留下未曝光的光刻膠圖案,作為后續(xù)刻蝕或離子注入的掩蔽層。

4. 后續(xù)工藝:刻蝕基材(保留未被光刻膠保護的區(qū)域),或去除光刻膠(剝離工藝)。
正性光刻膠的工藝和應(yīng)用場景。西安網(wǎng)版光刻膠國產(chǎn)廠家

根據(jù)反應(yīng)類型,光刻膠分為正膠(曝光部分溶解)和負膠(曝光部分固化)。西安網(wǎng)版光刻膠國產(chǎn)廠家

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,主要涵蓋厚板、負性、正性、納米壓印及光刻膠等類別,以滿足不同領(lǐng)域的需求。

厚板光刻膠:JT-3001 型號,具有優(yōu)異的分辨率和感光度,抗深蝕刻性能良好,符合歐盟 ROHS 標準,保質(zhì)期 1 年。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝,如特定電路板制造。

負性光刻膠

  • SU-3 負性光刻膠:分辨率優(yōu)異,對比度良好,曝光靈敏度高,光源適應(yīng),重量 100g。常用于對曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。
  • 負性光刻膠 JT-1000:有 1L 和 100g 兩種規(guī)格,具有優(yōu)異的分辨率、良好的對比度和高曝光靈敏度,光源適應(yīng)。主要應(yīng)用于對光刻精度要求高的領(lǐng)域,如半導(dǎo)體器件制造。
  • 耐腐蝕負性光刻膠 JT-NF100:重量 1L,具備耐腐蝕特性。適用于有腐蝕風險的光刻工藝,如特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造。


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