Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發布了全新工業級雙光子灰度光刻微納打印系統QuantumX，并榮獲創新獎。該系統是世界上No.1基于雙光子灰度光刻技術（2GL?）的精密加工微納米打印系統，可應用于折射和衍射微光學。該系統的面世表示著Nanoscribe已進軍現代微加工工業領域。具有全自動化系統的QuantumX無論從外形或者使用體驗上都更符合現代工業需求。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討雙光子灰度光刻技術。重慶高分辨率灰度光刻微納光刻

我們往往需要通過灰度光刻的方式來實現微透鏡陣列結構，灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區域完全曝透，而某些區域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態的光刻膠結構（如下圖4所示，八邊金字塔結構）。微透鏡陣列也是類似，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態。需要注意，灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多，約為Ra=100nm，前兩者可以會的Ra=50nm的球面。重慶Nanoscribe灰度光刻技術3D打印雙光子灰度光刻（2GL ?）系統Quantum X實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。

Nanoscribe的QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。

雙光子灰度光刻技術3Dprintingby2GL®是?種基于2PP的全新三維微加工技術。該技術將2PP的高精度和資質體素調節技術相結合，極大減少了打印層數，使2GL成為基于2PP原理的快速的為尺度3D打印技術。該技術在兼顧優越形狀精度和打印質量的同時可實現?速打印。灰度光刻3D打印技術作為對準雙光子光刻技術的重要補充，可實現直接在光纖末端和光子芯片上打印自由形狀的微光學元件，并實現自動納米級對準。歡迎您的隨時咨詢，我們為您提供專業的方案~

灰度光刻技術可提高光刻膠的分辨率。

納米紋理在納米技術中起著越來越重要的作用。近期的研究表明，可以通過空間調節其納米級像素的高度來進一步增強其功能。但是，實現該概念非常具有挑戰性，因為它需要對納米像素進行“灰度”打印，其中，納米像素高度的精度需要控制在幾納米之內。只有少數幾種方法（例如，灰度光刻或掃描束光刻）可以滿足這種嚴格的要求，但通常其成本較高，并且它們中的大多數需要化學開發過程。因此，具有高垂直和水平分辨率的可重構灰度納米像素打印技術受到高度追捧。雙光子灰度光刻技術3D printing by 2GL?是?種基于2PP的 全新三維微加工技術。天津超高速灰度光刻3D微納加工

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您了解成熟的灰度光刻技術。重慶高分辨率灰度光刻微納光刻

Nanoscribe獨有的體素調諧技術2GL®可以在確保優越的打印質量的同時兼顧打印速度，實現自由曲面微光學元件通過3D打印精確對準到光纖或光子芯片的光學軸線上。NanoscribeQX平臺打印系統配備光纖照明單元用于光纖芯檢測，確保打印精細對準到光纖的光學軸線上。共焦檢測模塊用于3D基板拓撲構圖，實現在芯片的表面和面上的精細打印對準。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術3Dprintingby2GL®是市場上基于2PP原理微納加工技術中打印速度**快的。其動態體素調整需要相對較少的打印層次，即可實現具有光學級別、光滑以及納米結構表面打印結果。這意味著在滿足苛刻的打印質量要求的同時，其打印速度遠遠超過任何當前可用的2PP三維打印系統。2GL®作為市場上快的增材制造技術，非常適用于3D納米和微納加工，在滿足優越打印質量的前提下，其吞吐量相比任何當前雙光子光刻系統都高出10到60倍。重慶高分辨率灰度光刻微納光刻