異質結電鍍銅的主要工序：前面的兩道工藝制絨和 PVD 濺射。增加的工藝是用曝光機替代絲網印刷機和烤箱。具體分為圖形化和金屬化兩個環節：（1）圖形化：先使用 PVD 設備做一層銅的種子層，然后使用油墨印刷機（掩膜一體機）的濕膜法制作掩膜。在經過掩膜一體機的印刷、烘干、曝光處理后，在感光膠或光刻膠上的圖形可以通過顯影的方法顯現 出來，即圖形化工藝。（2）金屬化：首先完成銅的沉積 （電鍍銅），然后使用不同的抗氧化方法進行處理（電鍍鋅或使用抗氧化劑制作保護層）。然后去掉之前的掩膜、銅種子層，露 出原本的 ITO。然后做表面處理，比如文字、標簽或者組裝玻璃，這是一整道工序，即完成銅電鍍的所有過程。電鍍銅可以用于各種金屬表面，包括鋼鐵、鋁合金、不銹鋼等，具有廣泛的應用范圍。泛半導體電鍍銅絲網印刷

電鍍銅是一種非接觸式的銅電極制備工藝，有望助力光伏電池實現完全無銀化。銅電鍍技術在印刷電路板PCB等行業應用成熟，亦可用于晶硅電池金屬化環節，其原理是在基體金屬表面通過電解方法沉積金屬銅制作銅柵線，進而作為電極收集光伏效應產生的載流子。銅電鍍工藝發展優勢明顯，較銀漿絲網印刷具備更低的銀漿成本、更優的導電性能、更好的塑性和高寬比，有望替代高銀耗的絲網印刷技術，進一步提高電池效率和降低銀漿成本，助力HJT和XBC電池降本增效和規模化發展廣州高效電鍍銅設備組件電鍍銅助力HJT降本增效，產業化進程進入加速期。

光伏電池電鍍銅工序包括種子層制備、圖形化、電鍍三大環節，涌現多種設備方案。電鍍銅 工藝尚未定型，各環節技術方案包括（1）種子層：設備主要采用 PVD，主要技術分歧 在于是否制備種子層、制備整面/局部種子層和種子層金屬選用；（2）圖形化：感光材料 分為干膜和油墨，主要技術分歧在于曝光顯影環節選用掩膜類光刻/LDI 激光直寫/激光 開槽；（3）電鍍：主要技術分歧在于水平鍍/垂直鍍/光誘導電鍍。釜川（無錫）智能科技有限公司，以半導體生產設備、太陽能電池生產設備為主要產品，打造光伏設備一體化服務。擁有強大的科研團隊，憑借技術競爭力，在清洗制絨設備、PECVD設備、PVD設備、電鍍銅設備等方面都有獨特優勢；以高效加工制造、快速終端交付的能力，為客戶提供整線工藝設備的交付服務。

適用電鍍銅工藝的光伏電池片產能：當前PERC生產成本相對較低，且由于具備更高效率的Ｎ型電池，如TOPCon、HJT、IBC出現，我們認為未來PERC電池會被逐步替代，PERC電池不具有采用電鍍銅工藝的必要性。N型電池作為新技術路線，降本是其規模化發展邏輯，電鍍銅工藝作為降本增效的技術，為其降本可選技術路線之一。根據CPIA對各類電池技術市場占比變化趨勢的預測，我們計算得出2022年到2030年，適用電鍍銅工藝的全球N型電池（TOPCon、HJT、IBC）產能自13.87GW增長至504.28GW。電鍍銅具有高純度和高密度，可以增強金屬的整體性能和美觀度。

電鍍銅圖形化環節主要包含掩膜、曝光、顯影幾個步驟。其中，掩膜環節是將抗刻蝕的感光材料涂覆在電池表面以遮蓋保護不需要被電鍍的區域，感光材料主要有濕膜油墨、干膜材料等。曝光、顯影環節是將圖形轉移至感光材料上，主要技術有LDI激光直寫光刻（無需掩膜）、常規掩膜光刻技術、激光開槽、噴墨打印等；其中無需掩膜的LDI激光直寫光刻技術應用潛力較大，激光開槽在BC類電池上已有量產應用，整體看圖形化技術路線有望逐步明確和定型。電鍍銅工藝流程，圖形化和金屬化為重點心。南京高效電鍍銅

電鍍銅工藝圖形化：光刻路線和激光路線并行。泛半導體電鍍銅絲網印刷

電鍍銅各環節技術方案包括（1）種子層：設備主要采用 PVD，主要技術分歧 在于是否制備種子層、制備整面/局部種子層和種子層金屬選用；（2）圖形化：感光材料 分為干膜和油墨，主要技術分歧在于曝光顯影環節選用掩膜類光刻/LDI 激光直寫/激光 開槽；（3）電鍍：主要技術分歧在于水平鍍/垂直鍍/光誘導電鍍。釜川（無錫）智能科技有限公司，以半導體生產設備、太陽能電池生產設備為主要產品，打造光伏設備一體化服務。擁有強大的科研團隊，憑借技術競爭力，在清洗制絨設備、PECVD設備、PVD設備、電鍍銅設備等方面都有獨特優勢；以高效加工制造、快速終端交付的能力，為客戶提供整線工藝設備的交付服務。泛半導體電鍍銅絲網印刷