光伏電鍍銅優勢在于可助力電池提效0.3-0.5%+，進而提高組件功率。我們預計銀包銅+0BB/NBB工藝或是短期內HJT電池量產化的主要降本路徑，隨著未來銀含量30%銀包銅漿料的導入，漿料成本有望降至約3分/W，HJT電池金屬化成本或降至5分/W左右。電鍍銅工藝有望于2023-2024年加快中試，并于2024年逐步導入量產。隨著工藝經濟性持續優化，電鍍銅HJT電池的金屬化成本有望降至5-6分/W左右，疊加考慮0BB/NBB對應組件封裝/檢測成本提升，而電鍍銅可提升效率約0.5%+，電鍍銅優勢逐漸強化，有望成為光伏電池無銀化的解決方案。電鍍銅工序包括電鍍環節。鄭州光伏電鍍銅

銅電鍍與傳統絲網印刷的差異主要在TCO膜制備工序之后，前兩道的工藝制絨與PVD濺射未變：傳統異質結產線在TCO膜制備之后采用銀漿印刷和燒結，而銅電鍍則把銀漿絲網印刷替換成制備銅柵線的圖形化和金屬化兩大工序。圖形化工藝：PVD（氣相沉積法）設備在硅片TCO表面濺射一層100nm的銅種子層，使用石蠟或油墨印刷機（掩膜一體機）的濕膜法制作掩膜/噴涂感光膠，印刷、烘干后經過曝光機曝光處理后，將感光膠或光刻膠上的圖形顯影。金屬化工藝：特定圖形的銅沉積（電鍍銅），然后使用不同的抗氧化方法進行處理（電鍍鋅或使用抗氧化劑制作保護層），除去之前的掩膜/感光膠，刻蝕去除多余銅種子層，避免電鍍銅在種子層腐蝕過程中引入缺陷，露出原本的TCO，其后再進行表面處理，至此形成完整的銅電鍍工序。整個過程使用的主要設備是電鍍設備。山東新型電鍍銅設備價格電鍍銅工藝圖形化：光刻路線和激光路線并行。

光伏電鍍銅裝備插片式電鍍：將待鍍電池設置在陰極導電支架上，向下插入使一個導電支撐單元位于相鄰兩個陽極板組件之間以實現電鍍。根據相關描述，該設備可實現雙面電鍍，單線可做到14000整片/小時，破片率＜0.02%，提高了裝置產能和電鍍質量，降低了不良率，結構合理、占地面積小。此外，根據相關技術通過將電池片設置在導電支撐單元上，移動陰極導電花籃使導電支撐單元在多個陽極單元的陽極板組件間移動以實現電鍍；該電鍍裝置產能可達24000整片/小時，電鍍均勻性更好，提高了電鍍質量，減少了碎片風險

適用電鍍銅工藝的光伏電池片產能：當前PERC生產成本相對較低，且由于具備更高效率的Ｎ型電池，如TOPCon、HJT、IBC出現，我們認為未來PERC電池會被逐步替代，PERC電池不具有采用電鍍銅工藝的必要性。N型電池作為新技術路線，降本是其規?；l展邏輯，電鍍銅工藝作為降本增效的技術，為其降本可選技術路線之一。根據CPIA對各類電池技術市場占比變化趨勢的預測，我們計算得出2022年到2030年，適用電鍍銅工藝的全球N型電池（TOPCon、HJT、IBC）產能自13.87GW增長至504.28GW。電鍍銅設備是實現金屬化的重點，各家紛紛布局主要電鍍設備有龍門電鍍線、水平電鍍線、VCP垂直連續電鍍線。

電鍍銅光刻技術是指利用光學-化學反應原理和化學、物理刻蝕方法，將設計好的微圖形結構轉移到覆有感光材料的晶圓、玻璃基板、覆銅板等基材表面上的微納制造技術。光刻設備是微納制造的一種關鍵設備，在泛半導體領域，根據是否使用掩膜版，光刻技術主要分為直寫光刻與掩膜光刻，其中掩膜光刻可進一步分為接近/接觸式光刻以及投影式光刻。掩膜光刻由光源發出的光束，經掩膜版在感光材料上成像，具體可分為接近、接觸式光刻以及投影光刻。其中，投影式光刻更加先進，能夠在使用相同尺寸掩膜版的情況下獲得更小比例的圖像，從而實現更精細的成像。直寫光刻也稱無掩膜光刻，是指計算機將電路設計圖形轉換為機器可識別的圖形數據，并由計算機控制光束調制器實現圖形的實時顯示，再通過光學成像系統將圖形光束聚焦成像至已涂覆感光材料的基板表面上，直接進行掃描曝光。直寫光刻既具有投影光刻的技術特點，如投影成像技術、雙臺面技術、步進式掃描曝光等，又具有投影光刻不具備的高靈活性、低成本以及縮短工藝流程等技術特點。電鍍銅助力HJT降本增效，產業化進程進入加速期。南京光伏電鍍銅設備價格

電鍍銅能夠提高金屬的導電性和導熱性，使其在電子設備中發揮更好的性能。鄭州光伏電鍍銅

太陽能電池電鍍銅技術。這項技術不僅可提升太陽能電池板效能，而且可大規模降低成本。以開掘市場潛力，全新的電鍍工藝旨在進一步針對低成本電池的需求，光伏銅電鍍技術采用金屬銅完全代替銀漿作為柵線電極，實現整片電池的工藝轉換，打破瓶頸，創新行業發展。光伏電鍍銅設計的導電方式主要有彈片式導電舟方式、水平滾輪導電、模具掛架式、彈片重力夾具等方式。合理的導電方式對光伏電鍍銅設備非常重要是實現可量產的關鍵因素之一。優良的導電方式可以實現設備的便捷維修和改善電鍍銅片與片之間的電鍍銅厚極差，甚至可以實現單片硅上分布電流的可監控性。鄭州光伏電鍍銅