異質(zhì)結(jié)電池生產(chǎn)流程與常規(guī)晶硅工藝的區(qū)別。常規(guī)晶硅工藝：1、清洗制絨。通過腐蝕去除表面損傷層，并且在表面進行制絨，以形成絨面結(jié)構(gòu)達到陷光效果，減少反射損失；2、擴散制結(jié)。通過熱擴散等方法在硅片上形成不同導(dǎo)電類型的擴散層，以形成p-n結(jié)；3、刻蝕去邊。去除擴散后硅片周邊的邊緣結(jié)；4、去磷硅玻璃。擴散過程中，在硅片表面會形成一層含磷的氧化硅，稱為磷硅玻璃（PSG），需要用氫氟酸腐蝕去掉；5、鍍減反射膜。為進行一步提高對光的吸收，在硅片表面覆蓋一層減反射膜。常用PECVD進行SiNx薄膜沉積，同時起到鈍化的作用；6、柵線電極。在電池正面用絲網(wǎng)印刷進行柵線電極制作，在背面印刷背場(BSF)和背電極，并且進行干燥和燒結(jié)；7、電池測試及分選。零界高效異質(zhì)結(jié)電池整線設(shè)備導(dǎo)入銅制程電池等多項技術(shù)，降低非硅成本。四川新型異質(zhì)結(jié)CVD

光伏異質(zhì)結(jié)電池生產(chǎn)設(shè)備，異質(zhì)結(jié)TCO的作用：在形成a-Si:H/c-Si異質(zhì)結(jié)后，電池被用一個~80納米的透明導(dǎo)電氧化物接觸。~80納米薄的透明導(dǎo)電氧化物（TCO）層和前面的金屬網(wǎng)格。透明導(dǎo)電氧化物通常是摻有Sn的InO（ITO）或摻有Al的ZnO。通常，TCO也被用來在電池的背面形成一個介電鏡。因此，為了理解和優(yōu)化整個a-Si:H/c-Si太陽能電池，還必須考慮TCO對電池光電性能的影響。由于其高摻雜度，TCO的電子行為就像一個電荷載流子遷移率相當?shù)偷慕饘?，而TCO/a-Si:H結(jié)的電子行為通常被假定為類似于金屬-半導(dǎo)體結(jié)。  TCO的功函數(shù)對TCO/a-Si:H/c-Si結(jié)構(gòu)中的帶狀排列以及電荷載流子在異質(zhì)結(jié)上的傳輸起著重要作用。此外，TCO在大約10納米薄的a-Si:H上的沉積通常采用濺射工藝；在此，應(yīng)該考慮到在該濺射工藝中損壞脆弱的a-Si:H/c-Si界面的可能性，并且在工藝優(yōu)化中必須考慮到。西安自動化異質(zhì)結(jié)濕法設(shè)備異質(zhì)結(jié)電池結(jié)合鈣鈦礦技術(shù)，HJT電池更展現(xiàn)出極大的潛力，成為潛力很大的太陽能電池技術(shù)。

異質(zhì)結(jié)是由不同材料組成的結(jié)構(gòu)，其中至少有一種材料是半導(dǎo)體材料。根據(jù)不同的材料組合方式和結(jié)構(gòu)特點，異質(zhì)結(jié)可以分為以下幾種主要類型：結(jié)：由p型半導(dǎo)體和n型半導(dǎo)體組成的結(jié)構(gòu)，是常見的異質(zhì)結(jié)。在pn結(jié)中，p型半導(dǎo)體和n型半導(dǎo)體的電子濃度和空穴濃度不同，形成了電場，使得pn結(jié)具有整流、光電轉(zhuǎn)換等特性。2.Schottky結(jié)：由金屬和半導(dǎo)體組成的結(jié)構(gòu)，金屬為n型或p型半導(dǎo)體提供電子或空穴，形成勢壘，使得電子或空穴在兩種材料之間流動。Schottky結(jié)具有快速開關(guān)、高頻特性等優(yōu)點。3.量子阱結(jié)：由兩種不同帶隙能量的半導(dǎo)體材料組成，中間夾著一層非常薄的半導(dǎo)體材料，形成能量勢阱。量子阱結(jié)具有量子效應(yīng)，可以用于制造激光器、太陽能電池等器件。4.量子點結(jié)：由非常小的半導(dǎo)體顆粒組成，大小通常在1-10納米之間。量子點結(jié)具有量子效應(yīng)，可以用于制造高效的光電轉(zhuǎn)換器件。5.懸掛門結(jié)：由兩個不同材料的半導(dǎo)體組成，其中一個半導(dǎo)體材料被刻蝕成一個非常薄的層，形成一個懸掛的結(jié)構(gòu)。懸掛門結(jié)具有高靈敏度、低功耗等特點，可以用于制造傳感器、存儲器等器件。

異質(zhì)結(jié)硅太陽能電池的工藝要求與同質(zhì)結(jié)晶體硅太陽能電池相比，有幾個優(yōu)點：與同質(zhì)結(jié)形成相比，異質(zhì)結(jié)形成期間的熱預(yù)算減少。a-Si:H層和TCO前接觸的沉積溫度通常低于250℃。與傳統(tǒng)的晶體硅太陽能電池相比，異質(zhì)結(jié)的形成和沉積接觸層所需的時間也更短。由于異質(zhì)結(jié)硅太陽能電池的低加工溫度及其對稱結(jié)構(gòu)，晶圓彎曲被抑制。外延生長：在晶體硅和a-Si:H鈍化層之間沒有尖銳的界面，而外延生長的結(jié)果是混合相的界面區(qū)域，界面缺陷態(tài)的密度增加。在a-Si:H的沉積過程中，外延生長導(dǎo)致異質(zhì)結(jié)太陽能電池的性能惡化，特別是影響了Voc。事實證明，在a-Si:H的沉積過程中，高沉積溫度（>140℃）會導(dǎo)致外延生長。其他沉積條件，如功率和襯底表面的性質(zhì)，也對外延生長有影響，通過使用a-SiO:H合金而不是a-Si:H，可以有效抑制外延生長。HJT的清洗特點:在制絨和清洗之后的圓滑處理導(dǎo)致了表面均勻性的改善，減少了微觀粗糙度，并提高了整個裝置的性能。此外，氫氣后處理被發(fā)現(xiàn)有利于提高a-Si:H薄膜的質(zhì)量和表面鈍化。CVD對比：HWCVD比PECVD有幾個優(yōu)點。例如，硅烷的熱解避免了表面的離子轟擊，而且產(chǎn)生的原子氫可以使表面鈍化。光伏異質(zhì)結(jié)是一種高效太陽能電池，具有雙面發(fā)電和低光衰減等優(yōu)點。

異質(zhì)結(jié)太陽能電池使用晶體硅片進行載流子傳輸和吸收，并使用非晶/或微晶薄硅層進行鈍化和結(jié)的形成。頂部電極由透明導(dǎo)電氧化物（TCO）層和金屬網(wǎng)格組成。異質(zhì)結(jié)硅太陽能電池已經(jīng)吸引了很多人的注意，因為它們可以達到很高的轉(zhuǎn)換效率，可達26.3%，相關(guān)團隊對HJT極限效率進行更新為28.5%，同時使用低溫度加工，通常整個過程低于200℃。低加工溫度允許處理厚度小于100微米的硅晶圓，同時保持高產(chǎn)量。異質(zhì)結(jié)電池具備光電轉(zhuǎn)化效率提升潛力高、更大的降成本空間、更高的雙面率、可有效降低熱損失、更低的光致衰減、制備工藝簡單等特點，為光伏領(lǐng)域帶來了新的希望。異質(zhì)結(jié)電池主工藝有4道：制絨、非晶硅沉積、TCO沉積、金屬化。蘇州新型異質(zhì)結(jié)設(shè)備供應(yīng)商

光伏異質(zhì)結(jié)作為一種重要的可再生能源技術(shù)，將繼續(xù)為推動全球能源轉(zhuǎn)型和可持續(xù)發(fā)展做出積極貢獻。四川新型異質(zhì)結(jié)CVD

光伏異質(zhì)結(jié)電池整線裝備，產(chǎn)業(yè)機遇：方向清晰：HJT技術(shù)工藝流程短、功率衰減低、輸出功率穩(wěn)定、雙面發(fā)電增益高、未來主流技術(shù)方向；時間明確：HJT平均量產(chǎn)效率已超過PERC瓶頸（25%），行業(yè)對HJT電池投入持續(xù)加大，電池商業(yè)化已逐漸成熟；機遇可期：設(shè)備與耗材是HJT規(guī)?；年P(guān)鍵，降本增效是不變的主題，具備HJT整線整合能力的供應(yīng)商優(yōu)勢明顯。當前HJT生產(chǎn)成本約：硅片占比約50%，銀漿占比約25%，靶材約6%左右；當前HJT設(shè)備成本約：清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、絲網(wǎng)印刷，設(shè)備投資額占比分別約10%、50%、25%和15%。四川新型異質(zhì)結(jié)CVD

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