激光干涉儀以其納米級別的測量精度，在半導體制造、精密機械加工等領域發揮著關鍵作用。然而，它對環境變化極為敏感，溫度、濕度的微小波動以及空氣潔凈度的差異，都可能干擾激光的傳播路徑與干涉效果，致使測量結果出現偏差。精密環控柜的超高精度溫度控制，能將溫度波動控制在極小區間，如關鍵區域 ±2mK（靜態），同時確保濕度穩定性可達 ±0.5%@8h，并且實現百級以上潔凈度控制，為激光干涉儀提供穩定、潔凈的測量環境，保障其測量精度不受外界因素干擾。光譜分析儀用于分析物質的光譜特性，廣泛應用于半導體材料檢測、化學分析等領域。在工作時，外界環境的不穩定可能導致儀器內部光學元件的性能變化，影響光譜的采集與分析精度。精密環控柜通過調控溫濕度，避免因溫度變化使光學元件熱脹冷縮產生變形，以及因濕度異常造成的鏡片霉變、光路散射等問題。其穩定的環境控制能力，保證光譜分析儀能夠準確、可靠地分析物質光譜，為科研與生產提供數據支持。采用節能技術，在保障高性能的同時降低能耗，為企業節省運營成本。光譜分析儀溫濕度試驗箱

在蓬勃發展的光纖通信領域，溫濕度的波動所帶來的影響不容小覷。溫度一旦發生變化，光纖的材料特性便會隨之改變，熱脹冷縮效應會使光纖的長度、折射率等關鍵參數產生波動。尤其在長距離的光纖傳輸線路中，這些看似微乎其微的變化隨著傳輸距離的增加不斷累積，可能造成光信號的傳輸時延不穩定，進而引發數據傳輸錯誤、丟包等嚴重問題。這對于依賴高速、穩定數據傳輸的業務，像高清視頻流暢播放、大型云服務數據的高效交互等，都將產生極大的阻礙。而當濕度出現波動時，空氣中的水汽極易附著在光纖表面，大幅增加光的散射損耗，致使光信號的傳輸效率降低，同樣嚴重影響通信質量 。芯片蝕刻溫濕度控制房可實現潔凈度百級、十級，溫度波動值±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃等精密環境控制。

自動安全保護系統是精密環控柜的重要保障，為設備的穩定運行和用戶的使用安全提供防護。故障自動保護程序時刻監控設備的運行狀態，一旦檢測到異常情況，如溫度過高、壓力過大、電氣故障等，系統會立即啟動相應的保護措施，停止設備的危險運行，避免設備損壞或引發安全事故，實現全天候無憂運行。同時，故障實時聲光報警提醒，能及時引起用戶的注意。用戶可以根據報警信息迅速判斷故障類型和位置，及時采取應對措施。此外，遠程協助故障處理功能，使用戶能夠通過網絡與專業技術人員取得聯系，技術人員可以遠程查看設備的運行數據和故障信息，指導用戶進行故障排查和修復，縮短了故障處理時間，提高了設備的可用性。

我司自主研發的高精密控溫技術，控制輸出精度達 0.1%，能精細掌控溫度變化。溫度波動控制可選 ±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃等多檔，滿足嚴苛溫度需求。該系統潔凈度表現優異，可達百級、十級、一級。關鍵區域靜態溫度穩定性 ±5mK，內部溫度均勻性小于 16mK/m，為芯片研發等敏感項目營造理想溫場，保障實驗數據不受溫度干擾。濕度方面，8 小時內穩定性可達 ±0.5%；壓力穩定性為 +/-3Pa，設備還能連續穩定工作 144 小時，助力長時間實驗與制造。在潔凈度上，工作區潔凈度優于 ISO class3，既確保實驗結果準確可靠，又保障精密儀器正常工作與使用壽命，推動科研與生產進步。提供詳細的培訓服務，讓用戶熟練掌握設備操作與維護要點。

芯片蝕刻時，刻蝕速率的均勻性對芯片電路完整性至關重要。溫度波動如同 “蝴蝶效應”，可能引發刻蝕過度或不足。精密環控柜穩定的溫度控制，以及可達 ±0.5%@8h 的濕度穩定性，有效避免因環境因素導致的刻蝕異常，保障芯片蝕刻質量。芯片沉積與封裝過程中，精密環控柜的超高水準潔凈度控制發揮關鍵作用。其可實現百級以上潔凈度控制，內部潔凈度優于 ISO class3，杜絕塵埃顆粒污染芯片，防止水汽對芯片材料的不良影響，確保芯片沉積層均勻、芯片封裝可靠。磁屏蔽部分，可通過被動防磁和主動消磁器進行磁場控制。材料溫濕度價格

精密環境控制設備內部壓力波動極小，穩定在 +/-3Pa。光譜分析儀溫濕度試驗箱

在電池制造流程里，電解液的注入環節堪稱重中之重，其對溫濕度的要求近乎嚴苛。哪怕是極其細微的溫度波動，都可能引發電解液的密度與黏度發生改變。這看似不起眼的變化，卻會直接干擾注液量的控制。一旦注液量出現偏差，電池內部的電化學反應便無法在正常狀態下進行，導致電池容量大打折扣，使用壽命也大幅縮短。而當濕度攀升過高，空氣中游離的水分便會趁機混入電解液之中。這些水分會與電解液的成分發生化學反應，生成一系列有害雜質。這些雜質會無情地腐蝕電池內部結構，嚴重破壞電池的穩定性與安全性，給電池的使用埋下諸多隱患。光譜分析儀溫濕度試驗箱