非制冷熱紅外顯微鏡的售價因品牌、性能、功能配置等因素而呈現較大差異 。不過國產的非制冷熱紅外顯微鏡在價格上頗具競爭力，適合長時間動態監測。通過鎖相熱成像等技術優化后，其靈敏度（通常 0.01-0.1℃）和分辨率（普遍 5-20μm）雖稍遜于制冷型，但性價比更具優勢。與制冷型相比，非制冷型無需制冷耗材，適用于 PCB、PCBA 等常規電子元件的失效分析；制冷型靈敏度更高（可達 0.1mK）、分辨率更低（低至 2μm），多用于半導體晶圓等對檢測要求較高的場景。非制冷熱紅外顯微鏡在中低端工業檢測領域應用較多。熱紅外顯微鏡能夠探測到亞微米級別的熱異常，檢測精度極高 。無損熱紅外顯微鏡批量定制

熱紅外顯微鏡是半導體失效分析與缺陷定位的三大主流手段之一（EMMI、THERMAL、OBIRCH），通過捕捉故障點產生的異常熱輻射，實現精細定位。存在缺陷或性能退化的器件通常表現為局部功耗異常，導致微區溫度升高。顯微熱分布測試系統結合熱點鎖定技術，能夠高效識別這些區域。熱點鎖定是一種動態紅外熱成像方法，通過調節電壓提升分辨率與靈敏度，并借助算法優化信噪比。在集成電路（IC）分析中，該技術廣泛應用于定位短路、ESD損傷、缺陷晶體管、二極管失效及閂鎖問題等關鍵故障。 工業檢測熱紅外顯微鏡性價比熱紅外顯微鏡結合自研算法，對微弱熱信號進行定位分析，鎖定潛在缺陷 。

在失效分析的有損分析中，打開封裝是常見操作，通常有三種方法。全剝離法會將集成電路完全損壞，留下完整的芯片內部電路。但這種方法會破壞內部電路和引線，導致無法進行電動態分析，適用于需觀察內部電路靜態結構的場景。局部去除法通過特定手段去除部分封裝，優點是開封過程不會損壞內部電路和引線，開封后仍可進行電動態分析，能為失效分析提供更豐富的動態數據。自動法則是利用硫酸噴射實現局部去除，自動化操作可提高效率和精度，不過同樣屬于破壞性處理，會對樣品造成一定程度的損傷。

通過大量海量熱圖像數據，催生出更智能的數據分析手段。借助深度學習算法，構建熱圖像識別模型，可快速準確地從復雜熱分布中識別出特定熱異常模式。如在集成電路失效分析中，模型能自動比對正常與異常芯片的熱圖像，定位短路、斷路等故障點，有效縮短分析時間。在數據處理軟件中集成熱傳導數值模擬功能，結合實驗測得的熱數據，反演材料內部熱導率、比熱容等參數，從熱傳導理論層面深入解析熱現象，為材料熱性能研究與器件熱設計提供量化指導。熱紅外顯微鏡幫助工程師分析電子設備過熱的根本原因 。

在國內失效分析設備領域，專注于原廠研發與生產的企業數量相對較少，尤其在熱紅外檢測這類高精度細分領域，具備自主技術積累的原廠更為稀缺。這一現狀既源于技術門檻 —— 需融合光學、紅外探測、信號處理等多學科技術，也受限于市場需求的專業化程度，導致多數企業傾向于代理或集成方案。

致晟光電正是國內少數深耕該領域的原廠之一。不同于單純的設備組裝，其從中樞技術迭代入手，在傳統熱發射顯微鏡基礎上進化出熱紅外顯微鏡，形成從光學系統設計、信號算法研發到整機制造的完整能力。這種原廠基因使其能深度理解國內半導體、材料等行業的失效分析需求，例如針對先進制程芯片的微小熱信號檢測、國產新材料的熱特性研究等場景，提供更貼合實際應用的設備與技術支持，成為本土失效分析領域不可忽視的自主力量。 熱紅外顯微鏡通過測量熱輻射強度，量化評估電子元件的功耗 。無損熱紅外顯微鏡批量定制

熱紅外顯微鏡在 3D 封裝檢測中，通過熱傳導分析確定內部失效層 。無損熱紅外顯微鏡批量定制

ThermalEMMI（熱紅外顯微鏡）是一種先進的非破壞性檢測技術，主要用于精細定位電子設備中的熱點區域，這些區域通常與潛在的故障、缺陷或性能問題密切相關。該技術可在不破壞被測對象的前提下，捕捉電子元件在工作狀態下釋放的熱輻射與光信號，為工程師提供關鍵的故障診斷線索和性能分析依據。在諸如復雜集成電路、高性能半導體器件以及精密印制電路板（PCB）等電子組件中，ThermalEMMI能夠快速識別出異常發熱或發光的區域，幫助工程師迅速定位問題根源，從而及時采取有效的維修或優化措施。無損熱紅外顯微鏡批量定制