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下壓框架并施加真空。等待5-8秒，直到框架完全是空的。9.在連續運行真空的情況下，添加30mL洗滌緩沖液（MultiBlot為15毫升）。重復洗滌步驟3次以上（總共4次洗滌）。當框架完全為空時，將TURN真空關閉。10.在印跡架的表面上涂適量的二抗（對于多印跡，為2.5mL，5毫升用于迷你印跡，或10毫升用于Midi印跡）。在室溫下孵育10分鐘，然后關閉真空。同樣，溶液將被吸收到印跡架中，并且表面可能看起來干燥。重要提示：孵育10分鐘后，再抽真空。11.向下壓框架并施加真空。實驗用WB實驗加速器保證質量-益啟生物公司。松江區Merck實驗加速器WB實驗加速器代理價格WB實驗加速器2.0提升的是...

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