肖特基二極管是以其發明人肖特基博士（Schottky）命名的，SBD是肖特基勢壘二極管（SchottkyBarrierDiode,縮寫成SBD）的簡稱。SBD不是利用P型半導體與N型半導體接觸形成PN結原理制作的，而是利用金屬與半導體接觸形成的金屬－半導體結原理制作的。因此，SBD也稱為金屬－半導體（接觸）二極管或表面勢壘二極管，它是一種熱載流子二極管。肖特基二極管的作用肖特基二極管的作用如下:肖特基二極管肖特基（Schottky）二極管，又稱肖特基勢壘二極管（簡稱SBD），它屬一種低功耗、超高速半導體器件。明顯的特點為反向恢復時間極短（可以小到幾納秒），正向導通壓降。其多用作高頻、低壓、大電流整流二極管、續流二極管、保護二極管，也有用在微波通信等電路中作整流二極管、小信號檢波二極管使用。在通信電源、變頻器等中比較常見。一個典型的應用，是在雙極型晶體管BJT的開關電路里面，通過在BJT上連接Shockley二極管來箝位，使得晶體管在導通狀態時其實處于很接近截止狀態，從而提高晶體管的開關速度。這種方法是74LS，74ALS，74AS等典型數字IC的TTL內部電路中使用的技術。肖特基（Schottky）二極管的特點是正向壓降VF比較小。在同樣電流的情況下，它的正向壓降要小許多。肖特基二極管 ，就選常州市國潤電子有限公司，用戶的信賴之選。TO220F封裝的肖特基二極管MBR40100PT

可用作電池保護：由于肖特基二極管具有低反向漏電流和快速開關速度，可用作保護電池的電路元件。例如，用于鋰離子電池的過充和過放保護電路，以防止電池過度充放電，提高電池壽命和安全性。4.雙極性肖特基二極管：除了單極性肖特基二極管（正向導通）外，還有雙極性肖特基二極管（正向和逆向都能導通）。雙極性肖特基二極管對于一些特定的應用來說非常有用，例如瞬態保護、模擬開關和電源選擇等。5.低電容特性：肖特基二極管的電容值較低，這有利于在高頻和射頻電路中減小不必要的電容耦合和交叉耦合效應，以獲得更好的信號傳輸和抗干擾性能。TO220封裝的肖特基二極管MBR30150CT常州市國潤電子有限公司是一家專業提供肖特基二極管 的公司，有需求可以來電咨詢！

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   肖特基二極管的基本結構是重摻雜的N型4H-SiC片、4H-SiC外延層、肖基觸層和歐姆接觸層。由于電子遷移率比空穴高，采用N型Si、SiC或GaAs為材料，以獲得良好的頻率特性，肖特基接觸金屬一般選用金、鉬、鎳、鋁等。金屬-半導體器件和PiN結二極管類似，由于兩者費米能級不同，金屬與半導體材料交界處要形成空間電荷區和自建電場。在外加電壓為零時，載流子的擴散運動與反向的漂移運動達到動態平衡，這時金屬與N型4H-SiC半導體交界處形成一個接觸勢壘，這就是肖特基勢壘。肖特基二極管就是依據此原理制作而成。[2]碳化硅肖特基二極管肖特基接觸金屬與半導體的功函數不同，電荷越過金屬/半導體界面遷移，產生界面電場，半導體表面的能帶發生彎曲，從而形成肖特基勢壘，這就是肖特基接觸。金屬與半導體接觸形成的整流特性有兩種形式，一種是金屬與N型半導體接觸，且N型半導體的功函數小于金屬的功函數；另一種是金屬與P型半導體接觸，且P型半導體的功函數大于金屬的功函數。金屬與N型4H-SiC半導體體內含有大量的導電載流子。金屬與4H-SiC半導體材料的接觸有原子大小的數量級間距時，4H-SiC半導體的費米能級大于金屬的費米能級。肖特基二極管 ，就選常州市國潤電子有限公司，讓您滿意，有想法可以來我司咨詢！

第2種輸運方式又分成兩個狀況，隨著4H-SiC半導體摻雜濃度的增加，耗盡層逐漸變薄，肖特基勢壘也逐漸降低，4H-SiC半導體導帶中的載流子由隧穿效應進入到金屬的幾率變大。一種是4H-SiC半導體的摻雜濃度非常大時，肖特基勢壘變得很低，N型4H-SiC半導體的載流子能量和半導體費米能級相近時的載流子以隧道越過勢壘區，稱為場發射。另一種是載流子在4H-SiC半導體導帶的底部隧道穿過勢壘區較難，而且也不用穿過勢壘，載流子獲得較大的能量時，載流子碰見一個相對較薄且能量較小的勢壘時，載流子的隧道越過勢壘的幾率快速增加，這稱為熱電子場發射。[2]反向截止特性肖特基二極管的反向阻斷特性較差，是受肖特基勢壘變低的影響。為了獲得高擊穿電壓，漂移區的摻雜濃度很低，因此勢壘形成并不求助于減小PN結之間的間距。調整肖特基間距獲得與PiN擊穿電壓接近的JBS，但是JBS的高溫漏電流大于PiN，這是來源于肖特基區。JBS反向偏置時，PN結形成的耗盡區將會向溝道區擴散和交疊，從而在溝道區形成一個勢壘，使耗盡層隨著反向偏壓的增加向襯底擴展。這個耗盡層將肖特基界面屏蔽于高場之外，避免了肖特基勢壘降低效應，使反向漏電流密度大幅度減小。此時JBS肖特基二極管 ，就選常州市國潤電子有限公司，用戶的信賴之選，歡迎您的來電！TO220F封裝的肖特基二極管MBR3045CT

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滿足國民經濟和建設的需要，目前，美國、德國、瑞典、日本等發達國家正競相投入巨資對碳化硅材料和器件進行研究。美國部從20世紀90年代就開始支持碳化硅功率器件的研究，在1992年就成功研究出了阻斷電壓為400V的肖特基二極管。碳化硅肖特基勢壘二極管于21世紀初成為首例市場化的碳化硅電力電子器件。美國Semisouth公司研制的SiCSBD（100A、600V、300℃下工作）已經用在美國空軍多電飛機。由碳化硅SBD構成的功率模塊可在高溫、高壓、強輻射等惡劣條件下使用。目前反向阻斷電壓高達1200V的系列產品，其額定電流可達到20A。碳化硅SBD的研發已經達到高壓器件的水平，其阻斷電壓超過10000V，大電流器件通態電流達130A的水平。[1]SiCPiN的擊穿電壓很高，開關速度很快，重量很輕，并且體積很小，它在3KV以上的整流器應用領域更加具有優勢。2000年Cree公司研制出KV的臺面PiN二極管，同一時期日本的Sugawara研究室也研究出了12KV的臺面PiN二極管。2005年Cree公司報道了10KV、V、50A的SiCPiN二極管，其10KV/20APiN二極管系列的合格率已經達到40%。SiCMOSFET的比導通電阻很低，工作頻率很高。TO220F封裝的肖特基二極管MBR40100PT